Test methods for space vapour deposition protective film on semiconductor wire
标准类型:国家标准
标准属性:推荐性
标准状态:现行
国家标准《宇航用集成电路内引线气相沉积保护膜试验方法》由TC425(全国宇航技术及其应用标准化技术委员会)归口,TC425SC2(全国宇航技术及其应用标准化技术委员会宇航电子分会)执行,主管部门为国家标准委。
主要起草单位北京微电子技术研究所、中国航天电子技术研究院。
主要起草人赵元富 、姚全斌 、林鹏荣 、冯小成 、荆林晓 、李洪剑 、付明洋 、林建京 、曹燕红 、刘思嘉 、刘征宇 。
标准号:GB/T 43227-2023发布日期:2023-09-07实施日期:2024-01-01标准类别:方法中国标准分类号:A29国际标准分类号:49.040 归口单位:全国宇航技术及其应用标准化技术委员会执行单位:全国宇航技术及其应用标准化技术委员会宇航电子分会主管部门:国家标准委
北京微电子技术研究所中国航天电子技术研究院
赵元富姚全斌荆林晓李洪剑曹燕红刘思嘉林鹏荣冯小成付明洋林建京刘征宇
20250577-T-469 化学气相沉积用硅喷射管YB/T 100-1997 集成电路引线框架用4J42K合金冷轧带材YB/T 100-2016 集成电路引线框架用4J42K合金冷轧带材GB/T 43931-2024 宇航用微波集成电路芯片通用规范GB/T 15876-2015 半导体集成电路塑料四面引线扁平封装引线框架规范GB/T 16525-2015 半导体集成电路塑料有引线片式载体封装引线框架规范GB/T 38345-2019 宇航用半导体集成电路通用设计要求GB/T 43228-2023 宇航用抗辐射加固集成电路单元库设计要求SJ/T 11773-2021 半导体集成电路冲压型引线框架JC/T 2243-2014 等离子体增强化学气相沉积工艺用覆膜石英管
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