GB/T 19444-2004《硅片氧沉淀特性的测定间隙氧含量减少法》

Oxygen precipitation characterization of silicon wafers by measurement of interstitial oxygen reduction

标准类型：国家标准

标准属性：推荐性

标准状态：现行

国家标准《硅片氧沉淀特性的测定间隙氧含量减少法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位洛阳单晶硅有限责任公司。

基础信息

标准号：GB/T 19444-2004发布日期：2004-02-05实施日期：2004-07-01标准类别：方法中国标准分类号：H26国际标准分类号：29.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

洛阳单晶硅有限责任公司

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