GB/T 14849.4-2014《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》

Methods for chemical analysis of silicon metal―Part 4：Determination of impurity contents―Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method

标准类型：国家标准

标准属性：推荐性

标准状态：现行

国家标准《工业硅化学分析方法第4部分：杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法》由TC243（全国有色金属标准化技术委员会）归口，TC243SC1（全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会）执行，主管部门为中国有色金属工业协会。

主要起草单位昆明冶金研究院、中国铝业股份有限公司郑州研究院、昆明冶研新材料股份有限公司、云南出入境检验检疫局技术中心等。

主要起草人刘维理、王劲榕、李跃平、赵德平、杨毅等。

基础信息

标准号：GB/T 14849.4-2014发布日期：2014-12-05实施日期：2015-08-01全部代替标准：GB/T 14849.4-2008标准类别：方法中国标准分类号：H12国际标准分类号：77.120.10 归口单位：全国有色金属标准化技术委员会执行单位：全国有色金属标准化技术委员会轻金属分会主管部门：中国有色金属工业协会

起草单位

昆明冶金研究院昆明冶研新材料股份有限公司中国铝业股份有限公司郑州研究院云南出入境检验检疫局技术中心等

起草人

刘维理王劲榕杨毅李跃平赵德平

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