GB/T 40279-2021《硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法》

Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method

标准类型：国家标准

标准属性：推荐性

标准状态：现行

国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试光学反射法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位有研半导体材料有限公司、山东有研半导体材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、优尼康科技有限公司、中环领先半导体材料有限公司、浙江海纳半导体有限公司、麦斯克电子材料股份有限公司、翌颖科技（上海）有限公司、开化县检验检测研究院。

主要起草人徐继平、宁永铎、卢立延、孙燕、张海英、由佰玲、潘金平、李扬、胡晓亮、张雪囡、楼春兰、盘健冰。

基础信息

标准号：GB/T 40279-2021发布日期：2021-08-20实施日期：2022-03-01标准类别：方法中国标准分类号：H21国际标准分类号：77.040 归口单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会执行单位：全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会主管部门：国家标准委

起草单位

有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司中环领先半导体材料有限公司麦斯克电子材料股份有限公司开化县检验检测研究院山东有研半导体材料有限公司优尼康科技有限公司浙江海纳半导体有限公司翌颖科技（上海）有限公司

起草人

徐继平宁永铎张海英由佰玲胡晓亮张雪囡卢立延孙燕潘金平李扬楼春兰盘健冰

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